Depunere chimică în fază de vapori

Depunere chimică în fază de vapori (simbolizat CVD, din engleză Chemical vapor deposition) este o metodă de depunere utilizată pentru producerea unor materiale solide de calitate înaltă, realizată de obicei sub vid. Metoda este adesea utilizată în industria semiconductorilor pentru producerea de filme subțiri.

Într-o metodă CVD obișnuită, plăcuța substrat este expusă unuia sau mai multor precursori volatili, care au rolul de a reacționa și a se depune pe suprafața substratului sub forma produsului dorit. De obicei se formează și produși secundari volatili, iar aceștia trebuie eliminați din camera de reacție.

Vezi și

• Amplificator operațional
• ASIC
• Celulă solară
• Colector solar
• Circuit integrat analogic
• Circuit integrat hibrid
• Circuit logic CMOS
• Diodă
• EPROM
• EEPROM
• EEPROM Serial
• Efect fotomagnetic
• Epitaxie
• Fotoelectrochimie
• Joncțiune p-n
• Memorie ROM
• Metodă Czochralski
• Panou solar
• NVRAM
• Plăcuță semiconductoare
• Rafinare
• Serigrafie
• Siliciu
• Tranzistor
• Tranzistor bipolar
• Tranzistor IGBT
• Tranzistor MOSFET
• Tranzistor unipolar

Legături externe

• Tehnici de depunere controlată Arhivat în 30 august 2018, la Wayback Machine.